表12.10-18 オレフィンの不斉水素移動型還元反応
反応に用いられている触媒および配位子は図12.10-3参照．
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反 応 |
光学活性触媒 |
反応条件 |
収率 (％) |
鏡像体過剰率 (％ ee) |
出 典 |
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(2S,4S)-BPPM/Rh2(OCOCH3)4 (1.5) |
水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5 : 2), 27 °C, 溶媒：DMSO |
100 |
92 (S) |
H. Brunner, et al., Synthesis, 1989, 743, DOI: 10.1055/s-1989-27379. |
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(2S,4S)-BPPM/Rh2(OCOCH3)4 (1.5) |
水素源：ギ酸-(S)-C6H5CH(CH3)NH2, 27 °C, 溶媒：DMSO |
100 |
＞97 (S) |
H. Brunner, et al., Synthesis, 1989, 743, DOI: 10.1055/s-1989-27379. |
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Ru(CF3COCHCOCF3)(η3-CH2CHCH2)[(S)-binap] (0.5) |
水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5 : 2), 70 °C, 溶媒：THF |
100 |
93.5 (R) |
J.M. Brown, et al., Tetrahedron: Asym., 2, 331 (1991), DOI: 10.1016/S0957-4166(00)82111-4. |
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[RuH{(S)-binap}2]PF6 (2) |
水素源：2-プロパノール–THF (1 : 1), 還流温度 |
100 |
97 (R) |
M. Saburi, et al., Tetrahedron Lett., 33, 5783 (1992), DOI: 10.1016/0040-4039(92)89031-7. |
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(S)-Binapine/Ni(OCOCH3)2 (6/5) |
60 °C，水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5 : 2), 溶媒：1,4-ジオキサン |
99 |
96 (R) |
P. Yang, H. Xu, J.S. Zhou, Angew. Chem., Int. Ed., 53, 12210 (2014), DOI: 10.1002/anie.201407744. |
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[RuH{(S)-binap}2]PF6 (2) |
水素源：2-プロパノール-THF (1 : 1), 50 °C |
57 |
96 (S) |
M. Saburi, et al., Tetrahedron Lett., 33, 5783 (1992), DOI: 10.1016/0040-4039(92)89031-7. |
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(R,R)-BDPP/[RhCl(cod)]2 (2) |
水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5 : 2), 90 °C, 溶媒：DMSO |
100 |
92 (R) |
A.M.d’A. Rocha-Gonsalves, et al., J. Organomet. Chem., 553, 199 (1998), DOI: 10.1016/S0022-328X(97)00628-1. |
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(R,R)-PYRPHOS/[RhCl(cod)]2 (2) |
水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5 : 2), 90 °C, 溶媒：DMSO |
100 |
91 (S) |
A.M.d’A. Rocha-Gonsalves, et al., J. Organomet. Chem., 553, 199 (1998), DOI: 10.1016/S0022-328X(97)00628-1. |
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(R)-Me-DuPHOS/NiBr2(dme) (4.8/4) |
80 °C，水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5 : 2), 溶媒：2-プロパノール |
92 |
91 (S) |
S. Guo, P. Yang, J.S. Zhou, Chem. Commun., 51, 12115 (2015), DOI: 10.1039/c5cc01632k. |
