表12.10-22 イミンの不斉水素移動型還元反応
反応に用いられている触媒および配位子は図12.10-3参照．
|
反 応 |
光学活性触媒 |
反応条件 |
収率 (％) |
鏡像体過剰率 (％ ee) |
出 典 |
|
|
(S,S)-Vb (0.5) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (3：2), 溶媒：ジクロロメタン |
72 |
77 (S) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
|
(S)-Binapine/Ni(OTf)2 (5) |
70 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), MS 3A, 溶媒：2-プロパノール |
94 |
97 (R) |
P. Yang, et al., Angew. Chem., Int. Ed., 55, 12083 (2016), DOI: 10.1002/anie.201606821. |
|
|
RuCl2[(S)-tolbinap] (1) |
85 °C, 水素源：ギ酸アンモニウム, 溶媒：15～20％ アンモニア-メタノール |
92 |
95 (R) |
R. Kadyrov, T.H. Riermeier, Angew. Chem., Int. Ed., 42, 5472 (2003), DOI: 10.1002/anie.200352503. |
|
Cbz = CO2CH2C6H5 |
(S)-BS2 (5) |
室温, MS 4A, 水素源：Hantzsch ester, 溶媒：トルエン |
92 |
94 (S) |
Y. Qian, et al., Adv. Synth. Catal., 354, 301 (2012), DOI: 10.1002/adsc.201100615. |
|
|
(R)-Ph-BPE/Ni(OTf)2 (5) Tf = SO2CF3 |
70 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (3：3), MS 3A, 溶媒：2-プロパノール |
85 |
91 (S) |
P. Yang, et al., Angew. Chem., Int. Ed., 55, 12083 (2016), DOI: 10.1002/anie.201606821. |
|
|
(S,S)-Vc (1) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
90 |
89 (S) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
|
(S,S)-Vc (1) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：アセトニトリル |
84 |
88 (S) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
|
(S,S)-TsDPEN/(Cp*RhCl2)2 (0.5) |
40 °C, 水素源：ギ酸ナトリウム, 溶媒：酢酸-酢酸ナトリウム緩衝液(pH 5) |
conv. 95 |
96 (S) |
C. Wang, et al., Angew. Chem., Int. Ed., 48, 6524 (2009), DOI: 10.1002/anie.200902570. |
|
|
(S,S)-O (0.5) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：アセトニトリル |
＞99 |
95 (R) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
(R,R)-M (0.5) |
20 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
95 |
90 (S) |
J. Mao, D.C. Baker, Org. Lett., 1, 841 (1999), DOI: 10.1021/jo990594s. |
|
|
|
(S,S)-M (0.5) |
20 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
96 |
99 (R) |
J. Mao, D.C. Baker, Org. Lett., 1, 841 (1999), DOI: 10.1021/jo990594s. |
|
|
(R,R)-Va (0.5) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：DMF |
90 |
95 (S) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
|
(R,R)-Va (0.5) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
99 |
92 (S) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
|
(S,S)-Vc (0.5) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
99 |
84 (R) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
|
(R,R)-Vc (1) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
＞99 |
84 (S) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
|
(S,S)-Vd (0.74) |
室温, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
72 |
98.7 (S) |
E. Vedejs, P. Trapencieris, E. Suna, J. Org. Chem., 64, 6724 (1999), DOI: 10.1021/jo990594s. |
|
|
(S,S)-O (0.5) |
28 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：DMF |
86 |
97 (R) |
N. Uematsu, et al., J. Am. Chem. Soc., 118, 4916 (1996), DOI: 10.1021/ja960364k. |
|
|
(R,R)-Vd (6) |
室温, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：アセトニトリル |
96 |
97 (S) |
L.F. Tietze, Y. Zhou, E. Töpken, Eur. J. Org. Chem., 2000, 2247, DOI: 10.1002/1099-0690(200006)2000:12<2247::AID-EJOC2247>3.0.CO;2-4. |
|
|
(S,S)-Vd (0.5) |
25 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
93 (S) |
K.H. Ahn, et al., J. Org. Chem., 62, 7047(1997), DOI: 10.1021/jo970917p. |
|
|
|
(R,R)-M (0.5) |
20 °C, 水素源：ギ酸-トリエチルアミン (5：2), 溶媒：ジクロロメタン |
96 |
81 (S) |
J. Mao, D.C. Baker, Org. Lett., 1, 841 (1999), DOI: 10.1021/jo990594s. |
